Спосіб використання

Рівномірно розподіліть маску на попередньо очищене обличчя один-два рази протягом тижня. Залишіть засіб на шкірі на 15 хвилин, після чого акуратно зніміть за допомогою вологого серветки. Промокніть обличчя насухо та завершіть догляд нанесенням зволожувального крему.

Склад

Isopropyl Alcohol, Bentonite, Water (Aqua), Propylene Glycol, Kaolin, Glycerin, Zinc Oxide, Glyceryl Stearate, PEG-100 Stearate, Salicylic Acid, Allantoin, Hydroxypropyl Methylcellulose, Sodium Lauryl Sulfate, Dehydroacetic Acid, Benzyl Alcohol.

Очищувальна маска Holy Land ACNOX PLUS Purifying Mask ефективно поглинає надмірну себосекрецію та різноманітні забруднення, сприяє швидшому загоєнню запалених ділянок шкіри.
Завдяки каоліну та оксиду цинку засіб забезпечує підсушувальний та ексфоліюючий ефект, ретельно очищає епідерміс та звужує розширені пори.
Саліцилова кислота делікатно відлущує ороговілі клітини, стимулює процеси оновлення шкіри, нормалізує активність сальних залоз, проявляє антисептичні та протизапальні властивості.
Алантоїн прискорює загоєння пошкоджень, зменшує прояви почервоніння та подразнення від акне, відновлює здоровий стан шкірного покриву.